佳能发售半导体光刻机解决方案平台“Lithography Plus”

　　佳能将于2022年9月5日起发售解决方案平台“Lithography Plus1”服务(以下简称“Lithography Plus”)，该系统汇聚佳能在半导体制造领域超过50年的技术积淀，以包括曝光工艺在内的海量半导体制造数据为支持，在提升设备维护运转率的同时，能够实现半导体制造工艺的优化。

　　KrF光刻机“FPA-6300ES6a”

　　佳能陆续推出了具有高处理性能的KrF光刻机和支持多种设备的i线光刻机等一系列产品，多年来一直积极地为购置佳能光刻机的客户提供技术支持。“Lithography Plus”通过综合运用技术经验与数据积累，在实现高效维护作业的同时，提高了光刻机运转率，助力生产效率的提升。

　　1.为半导体光刻机带来更高效的运营支持

　　该系统具有光刻机状态分析、定期维护结果分析和光刻机停止原因分析多种功能。根据这些数据，光刻机操作员可以更轻松地制定部件更换与维护方案，做好光刻机的曝光质量控制。此外，该系统的“控制面板(Dash Board)”功能可实现工厂内多个光刻机数据可视化，进一步提高了操作员维护业务的效率。

　　2.搭载能够有效提升半导体光刻机运转率的功能

　　通过“异常检测”功能，可监视光刻机的工作状态，检测发生的异常及征兆，防止光刻机停止工作。此外，“自动恢复”功能也有助于故障修复作业。作业无法自动恢复时，可以通过分析设备状态，提供故障修复手册，详细介绍修复方法，来确保故障的顺利修复。此外，佳能的专家工程师可以通过远程客服系统，远程共享和了解设备状态，详细解答操作员提出的问题。

　　3. 工法（Recipe）2优化功能助力实现高成品率

　　该系统搭载的“工艺解决方案”功能汇集了佳能迄今为止积累的光刻机优化案例，并对相关工法(Recipe)进行了优化。通过精细对准和线宽控制设置，可提供自动优化后的工法(Recipe)，从新型半导体工艺投入初期开始，为实现高成品率3提供支持。此外，该系统还具备与APC4等工艺设备的接口，可与生产管理系统联动运行。