4 月 2 日消息,据湖北九峰山实验室消息,作为半导体制造不可或缺的材料,光刻胶质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高,市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。当半导体制造节点进入到 100 nm 甚至是 10 nm 以下,如何产生分辨率高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形,成为光刻制造的共性难题。
针对上述瓶颈问题,九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队,支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。
该研究通过巧妙的化学结构设计,以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”,最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space 图案宽度值正态分布标准差(SD)极小(约为 0.05)、性能优于大多数商用光刻胶。且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。
该研究成果有望为光刻制造的共性难题提供明确的方向,同时为 EUV 光刻胶的着力开发做技术储备。
相关成果以“Dual nonionic photoacids synergistically enhanced photosensitivity for chemical amplified resists”为题,于 2024 年 2 月 15 日在国际顶级刊物 Chemical Engineering Journal (IF=15.1) 发表。
该项目由国家自然科学基金、973 计划共同资助,主要作者为华中科技大学光电国家研究中心朱明强教授,湖北九峰山实验室工艺中心柳俊教授和向诗力博士。
依托九峰山实验室工艺平台,上述具有自主知识产权的光刻胶体系在产线上完整了初步工艺验证,并同步完成了各项技术指标的检测优化,实现了从技术开发到成果转化的全链条打通。
文章内容仅供阅读,不构成投资建议,请谨慎对待。投资者据此操作,风险自担。
华为 Pura70 系列突然先锋开售,你抢到了吗?对于这次的新机来说,除了一如既往的优雅设计和强悍的硬件配置外,我们更为关注的则是其全球首发的「楼层级设备查找」功能,软实力也可以很硬核!
近日,中国家电及消费电子博览会(AWE 2024)隆重开幕。全球领先的智能终端企业TCL实业携多款创新技术和新品亮相,以敢为精神勇闯技术无人区,斩获四项AWE 2024艾普兰大奖。
“以前都要去窗口办,一套流程下来都要半个月了,现在方便多了!”打开“重庆公积金”微信小程序,按照提示流程提交相关材料,仅几秒钟,重庆市民曾某的账户就打进了21600元。
由世界人工智能大会组委会、上海市经信委、徐汇区政府、临港新片区管委会共同指导,由上海市人工智能行业协会联合上海人工智能实验室、上海临港经济发展(集团)有限公司、开放原子开源基金会主办的“2024全球开发者先锋大会”,将于2024年3月23日至24日举办。