美光公司昨日宣布，全球首款基于第六代10nm级制程(1γ)的LPDDR5x DRAM内存正式面世。这款创新产品实现了10.7Gbps的传输速率，较上一代1β产品功耗降低20%，展现出显著的能效优势。
在体积控制方面，1γ LPDDR5x内存模块厚度仅0.61mm，比美光上代产品薄14%，较竞品薄6%，为折叠屏等超薄智能手机设计提供了更大空间。作为美光首款采用EUV光刻技术的DRAM工艺，1γ制程此前已应用于DDR5内存产品。
目前，美光已开始向合作伙伴提供16GB封装样品，未来将推出8GB至32GB多种容量选项。预计搭载该内存的旗舰智能手机将于2026年面市。
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